Glava za tuširanje iz enokristalnega silicija

Semicorex monokristalni silicijprhakaže izjemno odpornost proti koroziji, nizek koeficient raztezanja in odlično toplotno prevodnost. Ker se trdno prilagaja težkim pogojem visoke temperature, visoke korozivnosti in visokega vakuuma v proizvodnji polprevodnikov, izkazuje izjemno toleranco na procesne pline, kot so plini za jedkanje in usedanje. Zato se enokristalna silikonska tuš glava pogosto uporablja v postopkih čiščenja polprevodnikov, postopkih oksidacije, postopkih nanašanja in postopkih jedkanja.

Semicorex uporablja napredne tehnike površinske obdelave, da zagotovi, da ima površina tuš glave iz monokristalnega silicija izjemno visoko ravnost in gladkost. Medtem, glede na standardizirano zasnovo strukture kanala in poti plina, je površina enokristalne silikonske prhe enakomerno porazdeljena s številnimi porami enakega premera (najmanjši premer lahko doseže 0,2 milimetra). Toleranca premera por enokristalne silikonske prhe je natančno nadzorovana na mikrometrski ravni, notranja stena por pa mora biti gladka in brez robov, kar zagotavlja natančnost porazdelitve in enakomernost procesnega plina s strukturnega in procesnega vidika.

Semicorex nudi strokovne storitve prilagajanja za izpolnjevanje različnih potreb strank. Glede na različne potrebe svojih strank lahko prilagodi rešitve videza, da ustrezajo dimenzijam in obliki njihovih reakcijskih komor. Optimizirana zasnova omogoča, da so rezine v celotnem reakcijskem procesu v popolnem in doslednem stiku s procesnim plinom, saj zagotavlja, da je plin enakomerno razpršen po reakcijski komori. To na koncu poveča učinkovitost proizvodnje in kakovost izdelkov.