Kitajska Tuš glava Proizvajalci, dobavitelji, tovarna

SiC (silicijev karbid) prha je specializirana komponenta, ki se uporablja v različnih industrijskih procesih, zlasti v industriji proizvodnje polprevodnikov. Zasnovan je za enakomerno in natančno porazdelitev in dovajanje procesnih plinov med procesi kemičnega naparjevanja (CVD) in epitaksialne rasti.

Glava prhe je oblikovana kot disk ali plošča z več enakomerno razporejenimi luknjami ali šobami na površini. Te luknje služijo kot izhodi za procesne pline, kar jim omogoča vbrizgavanje v procesno komoro ali reakcijsko komoro. Velikost, oblika in porazdelitev lukenj se lahko razlikujejo glede na posebno uporabo in zahteve postopka.

Ena od ključnih prednosti uporabe prhe SiC je njena odlična toplotna prevodnost. Ta lastnost omogoča učinkovit prenos toplote in enakomerno porazdelitev temperature po površini prhe, kar preprečuje vroče točke in zagotavlja dosledne procesne pogoje. Izboljšana toplotna prevodnost omogoča tudi hitro hlajenje glave prhe po postopku, kar zmanjša čas izpadov in poveča splošno produktivnost.

SiC prhe so zelo trpežne in odporne proti obrabi, tudi pri dolgotrajni izpostavljenosti jedkim plinom in visokim temperaturam. Ta dolgoživost pomeni podaljšane vzdrževalne intervale in zmanjšan čas izpadov opreme, kar povzroči prihranek stroškov in izboljšano zanesljivost procesa.

Poleg robustnosti prhe SiC nudijo odlične zmogljivosti distribucije plina. Natančno zasnovani vzorci in konfiguracije lukenj zagotavljajo enakomeren pretok plina in porazdelitev po površini substrata, kar spodbuja dosledno nanašanje filma in izboljšano delovanje naprave. Enakomerna porazdelitev plina prav tako pomaga zmanjšati razlike v debelini filma, sestavi in ​​drugih kritičnih parametrih, kar prispeva k izboljšanemu nadzoru procesa in izkoristku.

Semicorex ponuja sintrano polprevodniško glavo iz silicijevega karbida z nizko upornostjo. Imamo sposobnost načrtovanja po meri in dobave naprednih keramičnih materialov z uporabo različnih edinstvenih zmogljivosti.