Kitajska Poseben grafit Proizvajalci, dobavitelji, tovarna

Poseben grafit je nekakšen umetni grafit, ki je obdelan. To je pomemben material, ki je nepogrešljiv v vseh vidikih proizvodnje polprevodnikov in fotonapetostnih, vključno z rastjo kristalov, ionsko implantacijo, epitaksijo itd.

1. rast kristalov silicijevega karbida (sic)

Silicijev karbid kot polprevodniški material tretje generacije se pogosto uporablja v novih energetskih vozilih, 5G komunikacijah in drugih poljih. V 6-palčnem in 8-palčnem procesu rasti kristala SIC se izostatski grafit uporablja predvsem za izdelavo naslednjih ključnih komponent:

Graphite Crucible: To se lahko uporabi za sintezo surovine v prahu in pomaga tudi pri rasti kristalov pri visokih temperaturah. Njegova visoka čistost, visokotemperaturna odpornost in odpornost na toplotni udar zagotavljajo stabilno okolje za rast kristalov.

Grafitni grelec: To zagotavlja enakomerno porazdelitev toplote, ki zagotavlja kakovostno rast kristalov SIC.

Izolacijska cev: To ohranja enakomernost temperature znotraj peči kristalne rasti in zmanjšuje izgubo toplote.

2. Ionska implantacija

Ionska implantacija je ključni postopek pri proizvodnji polprevodnikov. Isostatični grafit se uporablja predvsem za izdelavo naslednjih komponent v ionskih implanterjih:

Graphite Getter: Ta absorbira nečistoče ione v ionskem žarku, kar zagotavlja čistost ione.

Grafitni fokusni obroč: Ta osredotoča na ionski žarek, ki izboljšuje natančnost in učinkovitost ionskih implantatov. Grafitni substratni pladnji: Uporabljajo se za podporo silicijev rezine in ohranjanje stabilnosti in doslednosti med ionsko implantacijo.

3. Epitaksija

Postopek epitaksija je ključni korak pri proizvodnji polprevodniških naprav. Izostatično stisnjen grafit se uporablja predvsem za izdelavo naslednjih komponent v peči Epitaxy:

Grafitni pladnji in puceptorji: Uporabljajo se za podporo silicijevih rezin, ki zagotavljajo stabilno podporo in enakomerno toplotno prevodnost med postopkom epitaksije.

4. Druge aplikacije za proizvodnjo polprevodnikov

Izostatično stisnjen grafit se pogosto uporablja tudi v naslednjih aplikacijah za polprevodniške proizvodnje:

Postopek jedkanja: Uporablja se za izdelavo grafitnih elektrod in zaščitnih komponent za jedce. Njegova korozijska odpornost in velika čistost zagotavljata stabilnost in natančnost v procesu jedkanja.

Kemična odlaganje hlapov (CVD): Uporablja se za izdelavo grafitnih pladnjev in grelnikov znotraj CVD peči. Njegova visoka toplotna prevodnost in visokotemperaturna odpornost zagotavljata enakomerno odlaganje tankega filma.

Testiranje embalaže: Uporablja se za izdelavo preskusnih napeljav in nosilcev. Njegova visoka natančnost in nizka kontaminacija zagotavljata natančne rezultate preskusov.

Prednosti grafitnih delov

Visoka čistost:

Z uporabo visoko-čistosti izostatično stisnjenega grafitnega materiala z izjemno nizko vsebnostjo nečistoč izpolnjuje stroge potrebe po čistosti materiala za izdelavo polprevodnikov. Lastna čistilna peč podjetja lahko očisti grafit na pod 5ppm.

Velika natančnost:

Z napredno opremo za obdelavo in tehnologijo zrele obdelave zagotavlja, da dimenzijska natančnost in tolerance izdelka in položaja dosežejo raven mikrona.

Visoka zmogljivost:

Izdelek ima odlično visoko temperaturno odpornost, korozijsko odpornost, odpornost na sevanje, visoko toplotno prevodnost in druge lastnosti, ki izpolnjujejo različne ostre delovne pogoje proizvodnje polprevodnikov.

Prilagojena storitev:

Prilagojene storitve oblikovanja in obdelave izdelkov je mogoče zagotoviti v skladu s strankami, ki ustrezajo potrebam različnih scenarijev aplikacij.

Vrste grafitnih izdelkov

(1) Izostatični grafit
Izostatični grafitni izdelki nastajajo s hladnim izostatičnim stiskanjem. V primerjavi z drugimi metodami oblikovanja imajo lončki, ki jih proizvaja ta postopek, odlično stabilnost. Grafitni izdelki, potrebni za enojne kristale SIC, so velike velikosti, kar bo vodilo do neenakomerne čistosti na površini in znotraj grafitnih izdelkov, ki ne morejo ustrezati zahtevam uporabe. Da bi izpolnili zahteve po globokem čiščenju grafitnih izdelkov z velikimi velikostmi, potrebnimi za enotne kristale SIC, je treba sprejeti edinstven visokotemperaturni postopek termokemičnega čiščenja impulzov, da se doseže globoko in enakomerno čiščenje velikih ali posebnih grafitnih izdelkov, tako da lahko čistost površine in jedra izdelka ustreza zahtevam uporabe.

(2) Porozni grafit
Porozni grafit je vrsta grafita z visoko poroznostjo in nizko gostoto. V procesu rasti kristala SIC ima porozni grafit pomembno vlogo pri izboljšanju enotnosti prenosa mase, zmanjšanju hitrosti pojavljanja faznih sprememb in izboljšanju kristalne oblike.
Uporaba poroznega grafita izboljša temperaturno in temperaturno enakomernost območja surovin, poveča osnovno razliko v lončku in ima tudi določen učinek na oslabitev prekristalizacije površine surovin; V rastni komori porozni grafit izboljšuje stabilnost materialnega pretoka v celotnem procesu rasti, poveča razmerje C/SI na območju rasti, pomaga zmanjšati verjetnost sprememb faz, hkrati pa porozni grafit igra tudi vlogo pri izboljšanju kristalnega vmesnika.

(3) občutek
Mehki klobuk in trdi občutek igrata vlogo pomembnih toplotnih izolacijskih materialov pri rasti kristalov SIC in epitaksialnih povezavah.

(4) Grafitna folija
Grafitni papir je funkcionalni material, narejen iz grafita z visoko ogljikovim kosmičem s kemično obdelavo in visokotemperaturno valjanje. Ima visoko toplotno prevodnost, električno prevodnost, prožnost in korozijsko odpornost.

(5) Sestavljeni materiali
Toplotno polje ogljikovega ogljika je eden glavnih potrošnih materialov v proizvodnji fotovoltaične enojne kristalne peči.

Proizvodnja polpred

Semicorex naredi grafit z majhnimi serilnimi, prilagojenimi proizvodnimi metodami. Proizvodnja majhne serije naredi izdelke bolj nadzorovane. Celoten postopek nadzorujejo programirljivi logični krmilniki (PLC), zabeleženi so bili podrobni podatki procesa, kar omogoča popolno sledljivost življenjskega cikla.

Med celotnim postopkom praženja je bila konsistenca dosežena v upornosti na različnih lokacijah in vzdrževan tesen nadzor temperature. To zagotavlja homogenost in zanesljivost grafitnih materialov.

Podjetje Semicorex uporablja popolnoma izostatično stiskalno tehnologijo, ki se razlikuje od drugih dobaviteljev; To pomeni, da je grafit sam ultra uniformi in se izkaže za še posebej pomembno v epitaksialnih procesih. Izvedeni so bili celoviti materialni testi enakomernosti, vključno z gostoto, uporom, trdoto, upogibanjem in močjo v različnih vzorcih.