Procesni grelnik rezin

Semicorex Wafer Process Heater je narejen iz grafita s prevleko iz silicijevega karbida (SiC), prevleka je nanesena z metodo CVD na posebne vrste grafita visoke gostote, tako da lahko deluje v visokotemperaturni peči z več kot 3000 °C v inertni atmosferi, 2200°C v vakuumu.
Posebne lastnosti in nizka masa materiala Wafer Process Heater omogočajo hitro segrevanje, enakomerno porazdelitev temperature in izjemno natančnost nadzora. V primerjavi z drugimi materiali ostane površina silicijevega karbida ravna zaradi majhnega toplotnega raztezanja tudi pri hitrih spremembah temperature. Grelne plošče so zelo primerne za zahtevne procese v sistemih za obdelavo polprevodnikov.
Pri Semicorexu se osredotočamo na zagotavljanje visokokakovostnih in stroškovno učinkovitih izdelkov našim strankam. Naš procesni grelnik rezin ima cenovno ugodnost in se izvaža na številne evropske in ameriške trge. Naš cilj je biti vaš dolgoročni partner, ki zagotavlja stalno kakovost izdelkov in izjemne storitve za stranke.

Parametri procesnega grelnika rezin

Značilnosti procesnega grelnika rezin

- CVD SiC premazi za podaljšanje življenjske dobe.
- Odpornost na visoke temperature, odpornost proti koroziji, dolga življenjska doba, lahko izboljša kakovost in izkoristek rezin.
- Ima izredno nizek koeficient toplotnega raztezanja, visoko temperaturno odpornost, visoko odpornost proti obrabi, dobro izolacijo, dobro kemično stabilnost in prepustnost skoraj vijolične (rdeče) vidne svetlobe.

Zagotovimo lahko antioksidacijo in dolgo življenjsko dobo grafitnega lončka, grafitnega kalupa in vseh delov grafitnega grelnika.