Čoln napolitanke

Semicorex Wafer Boat je zasnovan tako, da prenese težke pogoje difuzijske peči, kot so visoke temperature, korozivna okolja in potreba po natančni postavitvi rezin med postopkom difuzije.

Wafer Boat je izdelan iz keramike iz silicijevega karbida, izbrane zaradi svojih izjemnih lastnosti. Silicijev karbid je znan po visoki toplotni prevodnosti, ki zagotavlja enakomerno porazdelitev temperature po rezinah med difuzijo. Ta enotnost je ključnega pomena za ohranjanje celovitosti rezin in zagotavljanje doslednih ravni dopinga, ki so bistvenega pomena za funkcionalnost polprevodniških naprav, ki se izdelujejo. Poleg tega visoko tališče silicijevega karbida in toplotna stabilnost omogočata, da Wafer Boat deluje pri povišanih temperaturah, potrebnih v difuzijskih procesih, ki pogosto presegajo 1000 °C, brez poslabšanja ali deformacije.

Ena od ključnih prednosti keramike iz silicijevega karbida v Wafer Boat je njena odlična kemična odpornost. Ta odpornost je še posebej pomembna pri ohranjanju čistosti polprevodniških rezin, saj lahko vsaka kontaminacija povzroči napake v končnem izdelku, kar ogrozi delovanje integriranih vezij.

Strukturna celovitost Wafer Boat je še en pomemben dejavnik pri njegovi zasnovi. Zasnova mora zagotoviti, da so rezine varno pritrjene na svoje mesto, z natančnimi razmiki, ki omogočajo enakomerno izpostavljenost reaktivnim plinom. Ta natančnost je ključnega pomena za doseganje enakomernega dopinga v vseh rezinah, kar neposredno vpliva na električne lastnosti polprevodniških naprav.

Keramika iz silicijevega karbida poleg toplotnih in kemičnih lastnosti ponuja odlično dimenzijsko stabilnost, ki je ključnega pomena za visokonatančne zahteve pri proizvodnji polprevodnikov. Ta stabilnost zagotavlja, da ostanejo rezine popolnoma poravnane, kar omogoča natančno in enakomerno difuzijo dopantov po celotni površini vsake rezine, kar vodi v proizvodnjo visokokakovostnih polprevodniških naprav.

Semicorex Wafer Boat, izdelan iz keramike iz silicijevega karbida, je bistvena komponenta v procesu difuzije polprevodnikov. Zaradi izjemne toplotne prevodnosti, kemične odpornosti, mehanske trdnosti in dimenzijske stabilnosti je idealen za zahtevne pogoje proizvodnje polprevodnikov. Njegova uporaba ne poveča le učinkovitosti in zanesljivosti difuzijskega procesa, temveč prispeva tudi k splošni stroškovni učinkovitosti proizvodnje polprevodnikov.