Nosilec PSS za prenos rezin

Semicorexov PSS Handling Carrier for Wafer Transfer je zasnovan za najzahtevnejše aplikacije opreme za epitaksijo. Naš izjemno čisti grafitni nosilec lahko prenese težka okolja, visoke temperature in ostro kemično čiščenje. Nosilec, prevlečen s SiC, ima odlične lastnosti porazdelitve toplote, visoko toplotno prevodnost in je stroškovno učinkovit. Naši izdelki se pogosto uporabljajo na številnih evropskih in ameriških trgih in veselimo se, da bomo postali vaš dolgoročni partner na Kitajskem.

Pošlji povpraševanje

Opis izdelka

PSS Handling Carrier for Wafer Transfer podjetja Semicorex je zasnovan tako, da izpolnjuje zahteve visokotemperaturnega in ostrega kemičnega čiščenja za epitaksialno rast in postopke ravnanja z rezinami. Naš izjemno čisti grafitni nosilec je idealen za faze nanašanja tankih filmov, kot so MOCVD, epitaksijski sprejemniki, plošče za palačinke ali satelitske platforme in obdelavo obdelave rezin, kot je jedkanje. Nosilec, prevlečen s SiC, ima odlične lastnosti porazdelitve toplote, visoko toplotno prevodnost in je stroškovno učinkovit.

Pišite nam še danes, če želite izvedeti več o našem nosilcu PSS za prenos rezin.

Parametri nosilca za ravnanje s PSS za prenos rezin

Glavne specifikacije prevleke CVD-SIC
SiC-CVD lastnosti
Kristalna struktura	FCC β faza
Gostota	g/cm³	3.21
Trdota	Trdota po Vickersu	2500
Velikost zrn	μm	2~10
Kemijska čistost	%	99.99995
Toplotna zmogljivost	J kg-1 K-1	640
Temperatura sublimacije	℃	2700
Feleksuralna moč	MPa (RT 4-točkovno)	415
Youngov modul	Gpa (upogib 4 točke, 1300 ℃)	430
Toplotna ekspanzija (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Toplotna prevodnost	(W/mK)	300