> Izdelki

Izdelki

novi izdelki

View as

Nosilec za jedkanje PSS, prevlečen s SiC

Nosilci rezin, ki se uporabljajo pri epiksialni rasti in obdelavi rezin, morajo prestati visoke temperature in ostro kemično čiščenje. Nosilec za jedkanje PSS s prevleko Semicorex SiC, zasnovan posebej za te zahtevne aplikacije opreme za epitaksijo. Naši izdelki imajo dobro cenovno ugodnost in pokrivajo številne evropske in ameriške trge. Veselimo se, da bomo postali vaš dolgoročni partner na Kitajskem.

Preberi več Pošlji povpraševanje

SiC prevlečen valjčni susceptor za LPE epitaksialno rast

Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaxial Growth je visoko zmogljiv izdelek, zasnovan tako, da zagotavlja dosledno in zanesljivo delovanje v daljšem obdobju. Zaradi enakomernega toplotnega profila, laminarnega vzorca plinskega toka in preprečevanja kontaminacije je idealna izbira za rast visokokakovostnih epitaksialnih plasti na čipih rezin. Zaradi prilagodljivosti in stroškovne učinkovitosti je zelo konkurenčen izdelek na trgu.

Preberi več Pošlji povpraševanje

Barrel Receiver Epi System

Semicorex Barrel Susceptor Epi System je visokokakovosten izdelek, ki nudi vrhunsko oprijemljivost premaza, visoko čistost in odpornost proti oksidaciji pri visokih temperaturah. Zaradi enakomernega toplotnega profila, laminarnega vzorca plinskega toka in preprečevanja kontaminacije je idealna izbira za rast epiksialnih plasti na čipih rezin. Zaradi svoje stroškovne učinkovitosti in prilagodljivosti je zelo konkurenčen izdelek na trgu.

Preberi več Pošlji povpraševanje

Reaktorski sistem tekoče fazne epitaksije (LPE).

Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactor System je inovativen izdelek, ki nudi odlično toplotno učinkovitost, enakomeren toplotni profil in vrhunski oprijem premaza. Zaradi visoke čistosti, odpornosti proti oksidaciji pri visokih temperaturah in odpornosti proti koroziji je idealna izbira za uporabo v industriji polprevodnikov. Zaradi prilagodljivih možnosti in stroškovne učinkovitosti je zelo konkurenčen izdelek na trgu.

Preberi več Pošlji povpraševanje

CVD epitaksialno nanašanje v sodčastem reaktorju

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor je zelo vzdržljiv in zanesljiv izdelek za gojenje epiksialnih plasti na čipih rezin. Zaradi visoke temperaturne oksidacijske odpornosti in visoke čistosti je primeren za uporabo v industriji polprevodnikov. Zaradi enakomernega toplotnega profila, laminarnega vzorca plinskega toka in preprečevanja kontaminacije je idealna izbira za visokokakovostno rast epiksialne plasti.

Preberi več Pošlji povpraševanje

Epitaksialno nanašanje silicija v sodčastem reaktorju

Če potrebujete visoko zmogljiv grafitni sprejemnik za uporabo v aplikacijah za proizvodnjo polprevodnikov, je Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor idealna izbira. Njegova SiC prevleka visoke čistosti in izjemna toplotna prevodnost zagotavljata vrhunsko zaščito in lastnosti porazdelitve toplote, zaradi česar je najboljša izbira za zanesljivo in dosledno delovanje tudi v najzahtevnejših okoljih.

Preberi več Pošlji povpraševanje

<...138 139 140 141 142...144 >