Držalo za rezine ICP Etching

Semicorexov nosilec rezin za jedkanje ICP je popolna rešitev za postopke obdelave rezin pri visokih temperaturah, kot sta epitaksija in MOCVD. S stabilno visokotemperaturno odpornostjo proti oksidaciji do 1600 °C naši nosilci zagotavljajo enakomerne toplotne profile, laminarne vzorce pretoka plina in preprečujejo kontaminacijo ali difuzijo nečistoč.

Pošlji povpraševanje

Opis izdelka

Iščete zanesljivega dobavitelja nosilcev rezin za vašo epitaksijsko opremo? Ne iščite dlje kot Semicorex. Naše držalo za rezine za jedkanje ICP je zasnovano posebej za visokotemperaturna okolja s kemičnim čiščenjem. S fino prevleko iz kristalov SiC naši nosilci zagotavljajo vrhunsko toplotno odpornost, enakomerno toplotno enotnost in trajno kemično odpornost.
Naše držalo za rezine za jedkanje ICP je zasnovano za doseganje najboljšega laminarnega vzorca pretoka plina, kar zagotavlja enakomernost toplotnega profila. To pomaga preprečiti kakršno koli kontaminacijo ali difuzijo nečistoč, kar zagotavlja visokokakovostno epitaksialno rast na čipu rezin.
Pišite nam še danes, če želite izvedeti več o našem držalu za rezine ICP Etching.

Parametri držala za rezine za jedkanje ICP

Glavne specifikacije prevleke CVD-SIC
SiC-CVD lastnosti
Kristalna struktura	FCC β faza
Gostota	g/cm³	3.21
Trdota	Trdota po Vickersu	2500
Velikost zrn	μm	2~10
Kemijska čistost	%	99.99995
Toplotna zmogljivost	J kg-1 K-1	640
Temperatura sublimacije	℃	2700
Feleksuralna moč	MPa (RT 4-točkovno)	415
Youngov modul	Gpa (upogib 4 točke, 1300 ℃)	430
Toplotna ekspanzija (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Toplotna prevodnost	(W/mK)	300