ICP grafit s silicijevim ogljikom

Nosilci rezin, ki se uporabljajo pri obdelavi epitaksialne rasti, morajo prenašati visoke temperature in ostro kemično čiščenje. Semicorex ICP Silicon Carbon Coated Graphite suceptorji so zasnovani posebej za te zahtevne aplikacije opreme za epitaksijo. Naš izdelek je zasnovan tako, da prenese visoke temperature in ostro kemično čiščenje, kar zagotavlja dolgo življenjsko dobo in optimalne rezultate.
Naš grafit ICP Silicon Carbon Coated Graphite je zasnovan za doseganje najboljšega laminarnega vzorca pretoka plina, ki zagotavlja enakomeren toplotni profil. To pomaga preprečiti kakršno koli kontaminacijo ali difuzijo nečistoč, kar zagotavlja visokokakovostno epitaksialno rast na čipu rezin.
Pišite nam še danes, če želite izvedeti več o našem ICP Silicon Carbon Coated Graphite.

Parametri grafita, prevlečenega s silicijevim ogljikom ICP

Značilnosti grafita ICP Silicon Carbon Coated

- Izogibajte se luščenju in zagotovite premaz na vsej površini

Odpornost proti oksidaciji pri visokih temperaturah: Stabilen pri visokih temperaturah do 1600°C

Visoka čistost: narejeno s CVD kemičnim nanašanjem iz pare v pogojih visokotemperaturnega kloriranja.

Odpornost proti koroziji: visoka trdota, gosta površina in drobni delci.

Odpornost proti koroziji: kisline, alkalije, sol in organski reagenti.

- Doseči najboljši vzorec laminarnega toka plina

- Zagotovljena enakomernost toplotnega profila

- Preprečite kakršno koli kontaminacijo ali difuzijo nečistoč