ICP grafit s silicijevim ogljikom

Semicorexov ICP Silicon Carbon Coated Graphite je idealna izbira za zahtevno rokovanje z rezinami in postopke nanašanja tankega filma. Naš izdelek se ponaša z vrhunsko odpornostjo na toploto in korozijo, enakomerno toplotno enotnostjo in optimalnimi vzorci laminarnega toka plina.

Pošlji povpraševanje

Opis izdelka

Nosilci rezin, ki se uporabljajo pri obdelavi epitaksialne rasti, morajo prenašati visoke temperature in ostro kemično čiščenje. Semicorex ICP Silicon Carbon Coated Graphite suceptorji so zasnovani posebej za te zahtevne aplikacije opreme za epitaksijo. Naš izdelek je zasnovan tako, da prenese visoke temperature in ostro kemično čiščenje, kar zagotavlja dolgo življenjsko dobo in optimalne rezultate.
Naš grafit ICP Silicon Carbon Coated Graphite je zasnovan za doseganje najboljšega laminarnega vzorca pretoka plina, kar zagotavlja enakomeren toplotni profil. To pomaga preprečiti kakršno koli kontaminacijo ali difuzijo nečistoč, kar zagotavlja visokokakovostno epitaksialno rast na čipu rezin.
Pišite nam še danes, če želite izvedeti več o našem ICP Silicon Carbon Coated Graphite.

Parametri grafita, prevlečenega s silicijevim ogljikom ICP

Glavne specifikacije prevleke CVD-SIC
SiC-CVD lastnosti
Kristalna struktura	FCC β faza
Gostota	g/cm³	3.21
Trdota	Trdota po Vickersu	2500
Velikost zrn	μm	2~10
Kemijska čistost	%	99.99995
Toplotna zmogljivost	J kg-1 K-1	640
Temperatura sublimacije	℃	2700
Feleksuralna moč	MPa (RT 4-točkovno)	415
Youngov modul	Gpa (upogib 4 točke, 1300 ℃)	430
Toplotna ekspanzija (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Toplotna prevodnost	(W/mK)	300