ICP plošča za plazemsko jedkanje

Semicorexova plošča za plazemsko jedkanje ICP zagotavlja vrhunsko toplotno in korozijsko odpornost za ravnanje z rezinami in postopke nanašanja tankega filma. Naš izdelek je zasnovan tako, da prenese visoke temperature in ostro kemično čiščenje, kar zagotavlja vzdržljivost in dolgo življenjsko dobo. S čisto in gladko površino je naš nosilec popoln za ravnanje z neokrnjenimi rezinami.

Pošlji povpraševanje

Opis izdelka

Ko gre za nanašanje tankega filma in ravnanje z rezinami, zaupajte Semicorexovi plošči za plazemsko jedkanje ICP. Naš izdelek ponuja vrhunsko odpornost na vročino in korozijo, enakomerno toplotno enakomernost in optimalne vzorce laminarnega toka plina. S čisto in gladko površino je naš nosilec popoln za ravnanje z neokrnjenimi rezinami.

Naša plošča za plazemsko jedkanje ICP je zasnovana za doseganje najboljšega laminarnega vzorca pretoka plina, ki zagotavlja enakomeren toplotni profil. To pomaga preprečiti kakršno koli kontaminacijo ali difuzijo nečistoč, kar zagotavlja visokokakovostno epitaksialno rast na rezinskem čipu.

Pišite nam še danes, če želite izvedeti več o naši plošči za plazemsko jedkanje ICP.

Parametri plošče za plazemsko jedkanje ICP

Glavne specifikacije prevleke CVD-SIC
SiC-CVD lastnosti
Kristalna struktura	FCC β faza
Gostota	g/cm³	3.21
Trdota	Trdota po Vickersu	2500
Velikost zrn	μm	2~10
Kemijska čistost	%	99.99995
Toplotna zmogljivost	J kg-1 K-1	640
Temperatura sublimacije	℃	2700
Feleksuralna moč	MPa (RT 4-točkovno)	415
Youngov modul	Gpa (upogib 4 točke, 1300 ℃)	430
Toplotna ekspanzija (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Toplotna prevodnost	(W/mK)	300