Konzolno veslo iz SiC visoke čistosti

Konzolno veslo iz SiC visoke čistosti Semicorex izdelujeKeramika iz silicijevega karbida, na splošno SiSiC. Je SiC, proizveden s postopkom infiltracije silicija, procesom, ki dajekeramika iz silicijevega karbidamateriali boljša trdnost in zmogljivost. Konzolno veslo iz SiC visoke čistosti je dobilo ime po svoji obliki, je dolg trak, s stranskim ventilatorjem. Oblika je zasnovana za podporo vodoravnih ladjic za rezine v visokotemperaturni peči.

Uporablja se predvsem pri oksidaciji, difuziji, RTA/RTP v procesu izdelave polprevodnikov. Torej je atmosfera kisik (reaktivni plin), dušik (zaščitni plin) in majhna količina vodikovega klorida. Temperatura je približno 1250°C. Torej gre za visokotemperaturno oksidacijsko okolje. Zahteva, da je del v tem okolju odporen na oksidacijo in lahko zdrži pri visoki temperaturi.

Konzolno veslo Semicorex visoke čistosti SiC je izdelano s 3D tiskanjem, tako da je enodelno oblikovano in lahko izpolnjuje visoke zahteve glede velikosti in obdelave. Konzolno veslo bo sestavljeno iz dveh delov, telesa in njegovega premaza, Semicorex lahko zagotovi vsebnost nečistoč <300 pm za telo in <5 ppm za CVD SiC premaz. Tako je površina ultra visoke čistosti, da se prepreči vnos nečistoč in kontaminantov. Tudi material z visoko odpornostjo na toplotne udarce, ki ohranja obliko v dolgi življenjski dobi.

Semicorex izvaja zelo dragocen proces proizvodnje. Kar zadeva telo SiC, najprej pripravimo surovino in zmešamo prah SiC, nato oblikujemo in obdelamo do končne oblike, nato pa bomo del sintrali, da izboljšamo gostoto in številne kemične lastnosti. Glavni del je oblikovan in opravili bomo pregled same keramike ter izpolnjevali zahteve glede dimenzij. Po tem bomo opravili pomembno čiščenje. Postavite kvalificirano konzolno lopatico v ultrazvočno opremo za čiščenje, da odstranite prah in olje na površini. Po čiščenju postavite konzolno lopatico SiC visoke čistosti v sušilnik in jo pecite pri 80-120 °C 4-6 ur, dokler se voda ne posuši.

Konzolno veslo Semicorex visoke čistosti SiC je izdelano s 3D tiskanjem, tako da je enodelno oblikovano in lahko izpolnjuje visoke zahteve glede velikosti in obdelave. Konzolno veslo bo sestavljeno iz dveh delov, telesa in njegovega premaza, Semicorex lahko zagotovi vsebnost nečistoč <300 pm za telo in <5 ppm za CVD SiC premaz. Tako je površina ultra visoke čistosti, da se prepreči vnos nečistoč in kontaminantov. Tudi material z visoko odpornostjo na toplotne udarce, ki ohranja obliko v dolgi življenjski dobi.

del, da tvori gosto tanko plast SiC. Debelina prevleke je običajno 100±20 μm. Po zaključku bo organiziran končni pregled izdelkov, glede videza izdelkov, čistosti in dimenzij itd.