Nosilci rezin

Pod polčasnim nosilcem jedkanic je visokozmogljiva podporna platforma za podlago, zasnovana za postopke izdelave polprevodnikov, zlasti za aplikacije jedkanja rezin. Ta nosilec rezin, ki je zasnovan z visoko čisto čistosti grafitne baze in prevlečeno s kemičnim odlaganjem hlapov (CVD) silicijevega karbida (SIC), zagotavlja izjemno kemično odpornost, toplotno stabilnost in mehansko vzdržljivost, kar zagotavlja optimalno delovanje v okolju z visoko natančnostjo jedkanja.

Nosilec rezin jedkanic je prevlečen z enakomerno plastjo SIC CVD, kar znatno poveča njegovo kemično odpornost proti agresivni plazmi in korozivni plini, ki se uporabljajo v procesu jedkanja. KVB je glavna tehnologija za pripravo sic premaza na površini substrata. Glavni postopek je, da surovine za reaktante plinske faze podvržejo številni fizikalni in kemični reakciji na površini substrata in na koncu nanesejo na površino podlage za pripravo siC prevleke. SIC prevleka, pripravljena s tehnologijo CVD, je tesno vezana na površino substrata, kar lahko učinkovito izboljša odpornost na oksidacijo in ablacijo materiala substrata, vendar je čas nalaganja te metode dolg, reakcijski plin pa vsebuje določene strupene pline.

KVB Silicon karbidni premazDeli se pogosto uporabljajo v jedšeči opremi, opremi MOCVD, Epitaksialni opremi SI in Epitaksialni opremi SIC, opremi za hitro toplotno predelavo in drugih poljih. Na splošno je največji tržni segment CVD silicijevih karbidnih delov za jedkanje opreme in deli epitaksialne opreme. Zaradi nizke reaktivnosti in prevodnosti silicijevega karbida CVD na pline, ki vsebujejo klorove in fluor, ki vsebujejo fluor, postane idealen material za fokusiranje obročev in drugih delov opreme za jedkanje v plazmi.CVD sic deliv opremi jedkanice vključujejoosredotočene prstane, Glave za tuširanje, pladnji,ročni obroči, itd. Vzemite fokusni obroč kot primer. Fokusni obroč je pomembna komponenta, nameščena zunaj rezine in v neposrednem stiku z rezino. Napetost se nanese na obroč, da se usmeri plazma, ki gre skozi obroč in s tem usmeri plazmo na rezino za izboljšanje enakomernosti obdelave. Tradicionalni fokusni obroči so narejeni iz silicija ali kremena. Z napredovanjem integrirane miniaturizacije vezja se povpraševanje in pomen jedkanic v integrirani proizvodnji vezja povečujeta, moč in energija jedkanja pa se še naprej povečujeta.

SIC prevleka nudi vrhunsko odpornost proti fluorini (F₂) in klorovi (CL₂) plazemski jedki, ki preprečujejo razgradnjo in ohranjajo strukturno celovitost pred dolgotrajno uporabo. Ta kemična robustnost zagotavlja dosledno delovanje in zmanjšuje tveganja kontaminacije med predelavo rezin. Nosilec rezin je lahko prilagojen različnim velikosti rezin (npr. 200 mm, 300 mm) in posebne zahteve sistema jedkanja. Na voljo so modeli reže in vzorci lukenj za optimizacijo pozicioniranja rezin, nadzor pretoka plina in učinkovitost obdelave.

Aplikacije in ugodnosti

Nosilec rezin jedkanja se uporablja predvsem pri proizvodnji polprevodnikov za procese suhega jedkanja, vključno s plazemskim jedkanjem (PE), reaktivnim ionskim jedcem (RIE) in globokim reaktivnim ionskim jedcem (DRIE). Široko je sprejet pri proizvodnji integriranih vezij (ICS), naprav MEMS, električne elektronike in sestavljenih polprevodniških rezin. Njegova odločna sic prevleka zagotavlja dosledne rezultate jedkanja s preprečevanjem razgradnje materiala. Kombinacija grafita in SIC zagotavlja dolgoročno trajnost, zmanjšanje stroškov vzdrževanja in nadomestitve. Gladka in gosta površina SiC zmanjšuje nastajanje delcev, kar zagotavlja visok donos rezin in vrhunske zmogljivosti naprave. Izjemna odpornost na ostro jedkanje okolja zmanjšuje potrebo po pogostih zamenjavah, kar izboljšuje učinkovitost proizvodnje.