Nosilec podstavka za premaz TaC

Semicorex TaC Coating Pedestal Supporter ima ključno vlogo pri mehanski podpori, pa tudi pri nadzoru poteka procesa. Ko se uporablja v reaktorju, se nahaja pod glavnim sprejemnikom ali nosilcem rezin. Zaklene vrtljivi sklop na mestu, vzdržuje toplotno ravnovesje v podstavku in upravlja zdrav pretok plina pod območjem rezin. Nosilec podstavka s prevleko TaC je izdelan za obe funkciji, vključno s konstruktivno izdelano grafitno osnovo, ki je prevlečena z enakomerno gosto plastjo tantalovega karbida (TaC) s kemičnim naparjevanjem (CVD).

Tantalov karbid je eden najbolj ognjevzdržnih in kemično inertnih materialov, ki so na voljo, s tališčem nad 3800 °C in visoko odpornostjo proti koroziji in eroziji. Ko se CVD uporablja za proizvodnjoTaC premazi, je končni rezultat gladka, gosta prevleka, ki ščiti grafitno podlago pred visokotemperaturno oksidacijo, amonijakovo korozijo in kovinsko-organsko prekurzorsko reakcijo. Pod dolgotrajno izpostavljenostjo jedkim plinom ali ekstremnim toplotnim ciklom, povezanim z epitaksialnimi procesi, nosilec podstavka zdrži in ohranja strukturno in kemično stabilnost.

Prevleka CVD TaC, ki opravlja številne kritične funkcije, deluje kot zaščitna pregrada in preprečuje, da bi morebitna kontaminacija z ogljikom iz grafitne prevleke in substrata vstopila v okolje reaktorja ali vplivala na rezino. Drugič, zagotavlja kemično inertnost, ohranja čisto in stabilno površino v oksidacijskih in redukcijskih atmosferah. To preprečuje neželene reakcije med procesnimi plini in strojno opremo reaktorja, kar zagotavlja, da kemija plinske faze ostane nadzorovana in da se ohrani enakomernost filma.

Prav tako je treba opozoriti na pomen nosilca podstavka pri nadzoru pretoka plina. Ključni vidik v procesu epitaksialnega nanašanja je zagotoviti enotnost procesnih plinov, ki tečejo po celotni površini rezine, da se doseže dosledna rast plasti. Nosilec podstavka za prevleko TaC je natančno obdelan za nadzor kanalov in geometrij pretoka plina, kar bo pomagalo pri nemotenem in enakomernem usmerjanju procesnih plinov v reakcijsko cono. Z nadzorom laminarnega toka je turbulenca minimizirana, mrtve cone so odpravljene in nastane bolj stabilno plinsko okolje. Vse to prispeva k vrhunski enakomernosti debeline filma in boljši epitaksialni kakovosti.

TheTaC prevlekazagotavlja visoko toplotno prevodnost in emisivnost, kar omogoča tudi nosilcu podstavka učinkovito prevajanje in oddajanje toplote. To bo vodilo tudi do boljše splošne temperaturne enakomernosti na suceptorju in rezini z nižjimi temperaturnimi gradienti, ki povzročajo manj variacij v rasti kristalov. Poleg tega TaC nudi izjemno odpornost proti oksidaciji, kar bo zagotovilo, da bo emisijska sposobnost ostala dosledna med dolgotrajnimi operacijami, kar zagotavlja natančno kalibracijo temperature in ponovljivo učinkovitost postopka.

Nosilec podstavka s premazom TaC ima visoko mehansko vzdržljivost, kar omogoča podaljšano življenjsko dobo. Postopek prevleke CVD zlasti ustvari trdno molekularno vez med plastjo TaC in grafitnim substratom, da se prepreči razslojevanje, razpokanje ali luščenje zaradi toplotne obremenitve. Je torej komponenta, ki ima koristi od stotin visokotemperaturnih ciklov brez degradacije.