Komponente, prevlečene s TaC, pri epitaksialni rasti

Komponente, prevlečene s Semicorex TaC, v epitaksialni rasti so pravokotni del v obliki cevi, ki je v glavnem odgovoren za napredovanje dovoda zraka v CVD peči. Je torej bistvena sestavina in v strogem okolju je visoka temperatura, prisotni pa so tudi jedki plini. Razkriva razlog, zakaj smo izbrali grafit s prevleko iz TaC.

PrednostiPrevleka iz tantalovega karbida (TaC).

Prevleke iz tantalovega karbida (TaC) so potrebne za nekatere najbolj kritične dele sistemov za dovod zraka, zasnovane za uporabo v težkih pogojih, kot so tisti, ki jih najdemo v peči za kemično naparjevanje (CVD). Visoka temperatura in izpostavljenost korozivnim plinom, ki jih najdemo v CVD peči, ustvarjata zelo zahtevno delovno okolje. S svojim potencialom zagotavljanja odlične kemične inertnosti ter odpornosti proti koroziji in razgradnji bo uporaba prevlek TaC na komponentah, prevlečenih s TaC za dovod zraka, pri epitaksialni rasti močno zmanjšala možnost ustvarjanja okvarjenih delcev, kar bo podaljšalo življenjsko dobo komponente in zagotovilo največji izkoristek in kakovost zbranih epitelijskih filmov.

Odličnost premazne tehnologije

Semicorex za proizvodnjo uporablja napredno tehnologijo CVDKomponente, prevlečene s TaC, pri epitaksialni rastiza izpolnjevanje najzahtevnejših današnjih industrijskih standardov glede zmogljivosti in kakovosti. Natančnost, s katero Semicorex izdeluje TaC premaze, je razvidna iz visoke kakovosti izdelanih premazov.

Optimizirana izbira substrata

Učinkovitost prevlečenega dela je v osnovi povezana s kakovostjo njegove podlage. Izbiro najprimernejšega grafitnega osnovnega materiala za Semicorexove pravokotne cevi, prevlečene s TaC, je skrbno izbrala naša ekipa inženirjev ob upoštevanju številnih pomembnih kriterijev, ki so naslednji:

Razred grafita izberemo na podlagi njegovih fizikalnih lastnosti, da dosežemo najmočnejšo vez med prevleko TaC in grafitno podlago. To zagotavlja največji oprijem TaC prevleke na grafitno podlago.

Grafit, ki se uporablja za izdelavo naših pravokotnih cevi, prevlečenih s TaC, mora biti izredno visoke čistosti, da zmanjšamo možnost izločanja plinov in kontaminacije med našim visokotemperaturnim postopkom CVD.

Naši strogi postopki pridobivanja in nadzora kakovosti zagotavljajo, da ima vsaka serija grafitnega substrata, ki ga uporabimo, enake lastnosti materiala. To nam omogoča, da vsakič proizvedemo pravokotno cev, prevlečeno s TaC, z enakimi lastnostmi delovanja.

Dokazana zanesljivost in partnerstvo

Naše komponente, prevlečene s TaC, v epitaksialni rasti so bile obsežno testirane in odobrene s strani številnih največjih in najbolj cenjenih proizvajalcev v industriji polprevodnikov. Ti proizvajalci so izdelke Semicorex uveljavili kot zanesljive standarde za uporabo v kritičnih aplikacijah epitaksialne rasti.

Zavedamo se, da je dobava komponent pomembna sestavina vašega proizvodnega procesa. Zato se je Semicorex zavezal, da bo dolgoročen partner z zagotavljanjem visokokakovostne in zanesljive dobave izdelkov ter z odličnim zagotavljanjem logistike in poprodajne podpore, da bo vaše poslovanje potekalo nemoteno in neprekinjeno.