Rezervni deli v epitaksialni rasti

Rezervni deli Semicorex pri epitaksialni rasti so absolutno kritični, zlasti za procese, ki vključujejo nastavitve kvarčnih cevi. Ti deli so bistveni za omogočanje pretoka plina za pogon vrtenja dna pladnja in zagotavljanje natančnega nadzora temperature v celotnem procesu epitaksialne rasti. Rezervni deli Semicorex v epitaksialni rasti, pogovorno znani kot polovični deli, so natančno izdelani tako, da prenesejo visoke temperature in korozivna okolja, značilna za epitaksialne rastne komore. Izdelani iz silicijevega karbida (SiC) nudijo izjemno toplotno in kemično stabilnost, zaradi česar so idealna izbira za tako zahtevne aplikacije. Uporaba SiC zagotavlja, da so ti deli sposobni prenesti tudi najzahtevnejše pogoje.

Rezervni deli v epitaksialni rasti spominjajo na obliko polmeseca, zasnovanega tako, da se tesno prilegajo sklopu kvarčne cevi. Njihova edinstvena konfiguracija polmeseca omogoča enostavno vstavljanje in odstranjevanje iz sistema, kar olajša postopke vzdrževanja in zamenjave z učinkovitostjo in natančnostjo.

Rezervni deli v Epitaxial Growth služijo več namenom. Prvič, pomagajo pri nadzorovanem dovajanju plinov, ki so bistveni za proces epitaksialne rasti. Z uravnavanjem hitrosti pretoka in distribucije plina zagotavljajo enakomerno nanašanje polprevodniških materialov na površino substrata, kar je ključnega pomena za doseganje želenih lastnosti materiala in delovanja naprave.

Rezervni deli pri epitaksialni rasti prispevajo k rotacijskemu gibanju dna pladnja znotraj rastne komore. To vrtenje je ključnega pomena za spodbujanje enakomerne porazdelitve nanesenih materialov, kar preprečuje nastanek nepravilnosti ali napak v epitaksialnih plasteh.