Sic prevleka ploščati del

Flat del polpredstavka SiC prevleka je visokozmogljiva grafitna komponenta, prevlečena s SIC, posebej zasnovana za postopek Epitaxy SIC. Njegova glavna funkcija je olajšati enakomerno prevodnost pretoka zraka in zagotoviti dosledno porazdelitev plina med epitaksialno rastjo, zaradi česar je nepogrešljiva sestavina v proizvodnji polprevodnikov SIC. Izbira Polmorex zagotavlja vrhunsko kakovost in natančno opremljene rešitve, prilagojene polprevodniškim industriji.

SIC prevleka zagotavlja izjemno odpornost na visoke temperature, kemično korozijo in toplotno deformacijo, kar zagotavlja dolgotrajno delovanje v zahtevnih okoljih. Grafitna baza izboljšuje strukturno celovitost komponente, medtem ko enakomerna sic prevleka zagotavlja površino z visoko čistočo, ki je kritična za občutljive procese epitaksije. Zaradi te kombinacije materialov ploski del sic naredi zanesljivo rešitev za doseganje enotnih epitaksialnih plasti in optimizacijo splošne učinkovitosti proizvodnje.

Odlična toplotna prevodnost in stabilnost grafita zagotavljata pomembne prednosti kot sestavni del epitaksialne opreme. Vendar lahko uporaba čistega grafita privede do več težav. Med proizvodnim postopkom lahko korozivni plini in kovinsko-organski ostanki povzročijo, da se grafitna podlaga korodira in poslabša, kar znatno zmanjša njegovo življenjsko dobo. Poleg tega lahko vsak grafitni prah, ki odpade, onesnaži čip, zaradi česar je bistvenega pomena za reševanje teh težav med pripravo baze.

Tehnologija prevleke lahko te težave učinkovito ublaži tako, da pritrdi površinski prah, poveča toplotno prevodnost in uravnoteži porazdelitev toplote. Ta tehnologija je ključnega pomena za zagotavljanje trajnosti grafitne baze. Glede na aplikacijsko okolje in posebne zahteve uporabe mora imeti površinska prevleka naslednje značilnosti:

1. Visoka gostota in popolna pokritost: Grafitna baza deluje v visokotemperaturnem, korozivnem okolju in mora biti v celoti pokrita. Premaz mora biti gosta, da zagotavlja učinkovito zaščito.

2. Dobra površinska ravni: Grafitna podlaga, ki se uporablja za posamezno kristalno rast, zahteva zelo visoko površinsko ploščo. Zato mora postopek prevleke ohraniti prvotno ravnost podstavke, s čimer je zagotoviti, da je površina prevleke enakomerna.

3. Močna trdnost vezanja: Za izboljšanje vezi med grafitno osnovo in materialom za prevleko je ključnega pomena za zmanjšanje razlike v koeficientih toplotnih ekspanzij. Ta izboljšava zagotavlja, da prevleka ostane nedotaknjena tudi po visokih in nizkotemperaturnih toplotnih ciklih.

4. Visoka toplotna prevodnost: Za optimalno rast čipov mora grafitna baza zagotoviti hitro in enakomerno porazdelitev toplote. Posledično mora imeti material za prevleko visoko toplotno prevodnost.

5. Visoka tališče in odpornost na oksidacijo in korozijo: prevleka mora biti sposobna zanesljivo delovati v visokotemperaturnem in korozivnem okolju.

Če se osredotočimo na te ključne značilnosti, je mogoče dolgo življenjsko dobo in delovanje grafitnih komponent v epitaksialni opremi znatno izboljšati.

Z naprednimi proizvodnimi tehnikami Semicorex ponuja prilagojene modele, da ustreza posebnim zahtevam procesa. Ravni del sic premaza je strogo preizkušen na dimenzionalni natančnosti in trajnosti, kar odraža zavezanost polprevodnikov v polprevodniških materialih. Ne glede na to, ali se uporablja v množični proizvodnji ali raziskovalnih nastavitvah, ta komponenta zagotavlja natančen nadzor in visok donos v aplikacijah SIC epitaxy.