Plošča za epitaksialno rast

Plošča Semicorex za epitaksialno rast, izdelana za natančno nalogo podpore polprevodniških rezin med tvorbo epitaksialne plasti, je nepogrešljiva v sistemih za kovinsko-organsko kemično naparjanje (MOCVD). Njegova strateška vloga je omogočiti enakomerno in nadzorovano širjenje epitaksialnih filmov, kar zagotavlja dosledno kakovost po površini rezin.

1. Plošča za epitaksialno rast, izdelana z mislijo na vzdržljivost, zagotavlja trdno platformo, ki zmanjšuje verjetnost premikanja ali poškodbe rezin in tako ščiti celovitost rezin med občutljivimi fazami razvoja epitaksialne folije. Plošča za epitaksialno rast ne deluje samo kot podpora, temveč tudi kot ščit za spodnji grafit pred agresivnimi kemičnimi reakcijami in obrabo, ki se lahko pojavi med epitaksijo.

2. Vključitev prevleke SiC na ploščo za epitaksialno rast znatno izboljša njene toplotne lastnosti, kar omogoča hitro in uravnoteženo razpršitev toplote, ki je bistvena za enotno tvorbo epitaksialne plasti. Sposobnost plošče za epitaksialno rast, da enakomerno absorbira in oddaja toploto, zagotavlja toplotno stabilno okolje, ki vodi do natančnega nanosa tankih filmov – bistvenega dejavnika pri izdelavi epitaksialnih slojev vrhunske kakovosti, od katerih sta odvisni učinkovitost in zanesljivost naprednih polprevodnikov.

3. Plošča za epitaksialno rast ima prevleko iz finih kristalov SiC in nudi brezhibno gladko površino, ki je ključnega pomena za občutljivo ravnanje z rezinami. Ta neokrnjeni vmesnik zmanjša kakršno koli morebitno površinsko kontaminacijo, saj imajo rezine v celotnem procesu obsežen stik čez ploščo za epitaksialno rast.

Če povzamemo, uporaba plošče Semicorex za epitaksialno rast obljublja stabilno delovanje in podaljšano življenjsko dobo, kar zmanjša pogostost potreb po zamenjavi. Plate for Epitaxial Growth bistveno dvigne kaliber proizvodnje, s čimer se zmanjšajo izpadi delovanja in stroški vzdrževanja, hkrati pa se poveča učinkovitost proizvodnje.**