CVD cevi za peči, prevlečene s SiC

Semicorex CVD prevlečen s SiCcevi za pečso procesne cevi velikega premera, ki zagotavljajo stabilno reakcijsko komoro za visokotemperaturno obdelavo polprevodniških rezin. Narejeni so za delovanje v atmosferah, ki vsebujejo kisik (reaktantni plin), dušik (zaščitni plin) in majhne količine vodikovega klorida, s stabilno delovno temperaturo okoli 1250 stopinj Celzija.

Prednost cevi za peč Semicorex CVD, prevlečenih s SiC

1. Napredna tehnologija oblikovanja in prilagodljiva proizvodnja po meri

Oblikovano s tehnologijo 3D tiskanja, SemicorexCVD SiC-prevlečene cevi za peč imajo brezšivno, integralno keramično strukturo brez šibkih področij. Ta tehnologija oblikovanja zagotavlja izjemno plinotesno tesnjenje, ki učinkovito preprečuje zunanje onesnaževalce in vzdržuje zahtevano temperaturo, tlak in atmosfersko okolje za obdelavo polprevodniških rezin.

Poleg tega tehnologija 3D tiskanja podpira tudi izdelavo kompleksnih oblik in natančen nadzor dimenzij. Izdelava po meri je na voljo za premer, dolžino, debelino stene in tolerance v skladu z različnimi zahtevami, da se zagotovi popolna združljivost z navpičnimi ali vodoravnimi pečmi strank.

2. Natančna izbira materiala in kontrola čistoče

Pečne cevi Semicorex CVD, prevlečene s SiC, so izdelane iz skrbno izbranega polprevodniškega materiala visoke čistosti. Vsebnost nečistoč v njihovi matrici je nadzorovana na manj kot 300 PPM, vsebnost nečistoč v CVD SiC prevleki pa je omejena na manj kot 5 PPM. Ta stroga kontrola čistosti bistveno zmanjša kontaminacijo rezin, ki jo povzročajo kovinske nečistoče, ki se obarjajo pri visokotemperaturnih delovnih pogojih, kar močno izboljša izkoristek in zmogljivost končnih polprevodniških naprav. Poleg tega uporaba CVD SiC prevleke poveča visokotemperaturno odpornost, odpornost proti kemični koroziji in toplotno stabilnost Semicorex CVD SiC prevlečenih cevi peči, s čimer močno podaljša njihovo življenjsko dobo v težkih delovnih pogojih.

S številnimi prednostmi lahko cevi peči Semicorex CVD, prevlečene s SiC, zagotovijo stabilen, primeren in izjemno čist reakcijski prostor za obdelavo polprevodniških rezin. Dosledna porazdelitev temperature in enakomerna plinska atmosfera v pečeh, ki ju omogočajo cevi peči, prevlečene s SiC-jem Semicorex CVD, pomagajo doseči natančnejšo difuzijo dopinga, toplotno oksidacijo, žarjenje in nanašanje tankega filma.