8 -palčni EPI zgornji prstan

SEMEMOREX 8 -palčni EPI Top Ring je specializirana sestavina epitaksialnih (EPI) sistemov za nalaganje, ki zagotavljajo visoko zmogljivost kot zgornji pokrov obroč na reakcijski komori. S poudarkom na strukturni celovitosti in toplotni stabilnosti med epitaksialno rastjo polprevodniških rezin je zgornji obroč EPI izdelan iz visokega čistnega grafita in prevlečen s silicijevim karbidom (SIC), da zdrži temperaturo in kemično reaktivno okolje proizvodnje polprevodnikov.

V epitaksialnih reaktorjih zgornji obroč pomaga ohraniti okolje rezin in ima pomembno vlogo pri temperaturni enakomernosti in pretoku plina med odlaganjem kot del sklopa obšilja. SIC prevleka na grafitnem substratu zagotavlja zgornji obroč EPI s toplotno stabilnostjo in inertno okolje, potrebnim za zaščito grafitnega jedra zaradi izpostavljenosti procesom plinov med zmogljivostjo zgornjega obroča EPI (vodik, silane, klorosilani itd.). Trdota in prevodnost plasti SIC povečujeta delovanje zgornjega obroča EPI, tako da preprečuje razgradnjo in omogočata stabilnejše plasti v celotnem proizvodnem ciklu.

Z zavezanostjo dimenzionalni natančnosti, doslednosti prevleke in ponovljivosti se 8 -palčni EPI zgornji obroč izdeluje z natančnim inženiringom. Grafitni substrat je obdelan do tesnih toleranc in toplotno očiščen do ločevanja nečistoč, ki zagotavlja čisto substrat z odlično čistostjo in močjo. SIC prevleka se uporablja s kemičnim odlaganjem hlapov (CVD), da tvori gosto, dosledno in močno vezano zaščitno plast. Ta postopek minimizira nastajanje delcev in omogoča, da prevleka ohranja celovitost površine med daljšo uporabo.

Proizvajalci polprevodnikov se zanašajo na zgornji obroč EPI, da ohranijo kritične parametre komore in podpirajo rezine brez napak med proizvodnjo. Konfiguracija je zasnovana za uporabo z vodilnimi 8-palčnimi sistemi za obdelavo rezin OEM. Na voljo so možnosti po meri za debelino, površinsko obdelavo in utripane zasnove za boljše upravljanje s toploto ali celo porazdelitev plina.

Skladnost lastnosti grafita, prevlečenega s SiC za to aplikacijo, zahteva kombinacijo najboljše lastnosti iz obeh materialov; Graphit je zelo obdelovalen in ima toplotno odpornost na šok v kombinaciji s silicijevim karbidom, ki je težji, odporen proti koroziji in ima daljšo življenjsko dobo. Ta kombinacija vam na koncu daje EPI zgornji obroč, ki je zanesljiv pri visoki temperaturi, in zagotavlja čisto in stabilno procesno okolje, ki zmanjšuje intervale vzdrževanja in zagotavlja splošno izboljšanje opreme.

Grafitne komponente igrajo nepogrešljivo in ključno vlogo pri proizvodnji polprevodnikov. Kakovost grafitnega materiala znatno vpliva na kakovost končnega izdelka. Naša konsistenca grafitne serije in homogenost materiala se nadzira in zajamčena v celotnem proizvodnem procesu.

1. Proizvodnja šarže z uporabo majhne karbonizacijske peči s kapaciteto le 50 kubičnih metrov.

2. Vsak kos materiala spremljamo in sledimo.

3.Temperaturni nadzor na več točkah v peči zagotavlja minimalne temperaturne razlike.

4.Temperaturni nadzor na več točkah na materialu zagotavlja minimalne temperaturne razlike.

8-palčni EPI zgornji obroč po Semicorexu ponuja izjemne zmogljivosti, doslednost serije do šarže in dokazano zanesljivost v najtežjih polprevodniških silicijih, silicijevem karbidu ali drugih spojinih polprevodniških epitaksijskih procesov. Na vsakem koraku izdelave proizvajamo izdelke s nadzorom kakovosti, kar pomeni, da vsak izdelek, kupljen za industrijo polprevodnikov, presega kakovostne specifikacije.

Izberite 8-palčni EPI Top Ring za svojo aplikacijo Epitaxy, da izkoristite možnosti, ki jih ponujajo z natančnim inženiringom, vrhunskimi materiali in prilagoditvijo aplikacije za izboljšanje donosa in zmogljivosti naprave.