SiC grelna nitka

Grelni filament Semicorex SiC, visokovakuumski grelni element, razvit za obdelavo rezin v novih izdelavah polprevodnikov, je inovativen grelni element, zasnovan zgrafitno jedroin visoke čistostiprevleka iz silicijevega karbida. Poseben filament izkorišča toplotno prevodnost grafita ter vzdržljivost in zaščito SiC, zaradi česar je sčasoma stabilen in energetsko učinkovit grelec. SiC grelna nitka je zasnovana za enakomerno segrevanje rezin in doseganje specifikacij, zaradi česar je odlična komponenta za visokotemperaturno obdelavo polprevodnikov, kot so epitaksija, difuzija in žarjenje.

SiC grelna nitka je narejena iz grafita visoke čistosti zaradi termičnih lastnosti grafita in kakovostnih električnih lastnosti. Grafit zagotavlja glavno funkcijo ogrevanja, ki omogoča hitro odzivnost in učinkovito ogrevanje pod električno obremenitvijo. Gost SiC premaz visoke čistosti ščiti filament pred možnimi viri kontaminacije. Prevleka SiC ščiti rezino pred kemično kontaminacijo, oksidacijo in delci v komori, podaljša življenjsko dobo filamenta in ustvari čisto okolje komore.

Ključna kakovost SiC grelnega filamenta je zmožnost enakomernega segrevanja rezine. Temperaturne razlike v rezini lahko povzročijo napake ali izgubo izkoristka. SiC grelna nitka ima odlično toplotno prevodnost in trdna zasnova filamenta zagotavlja stabilno in bolj enakomerno toploto, kar omejuje toplotne gradiente za absolutno kontrolo procesa.

Grelna nitka SiC je prilagodljiva, vrednost električnega upora vsake nitke je mogoče prilagoditi za njegovo procesno orodje in delovno okolje. Ta prilagoditev omogoča tehnologiji silicijevega karbida nadzor vrednosti upora geometrije filamenta, debeline prevleke in lastnosti materiala. SiC grelna nitka se lahko prilega številnim različnim zasnovam peči z veliko različnimi velikostmi rezin in procesnimi recepti. To je še posebej ugodno za proizvajalce polprevodnikov, saj omogoča učinkovitejše delovanje trenutnih procesov in ohranja združljivost z že vzpostavljenimi sistemi.  Tretja lastnost delovanja je vzdržljivost. Pri visokotemperaturnih polprevodniških procesih je grelni element izpostavljen zelo agresivnim kemičnim okoljem in ponavljajočim se toplotnim ciklom.

Uporaba grelne nitke Semicorex SiC pokriva obsežen nabor postopkov izdelave polprevodniških naprav. Med epitaksialno rastjo na primer grelni element zagotavlja stabilno in enakomerno temperaturo substrata za nalaganje visokokakovostnih kristalnih filmov.