PBN Crucibles

Polmorični pirolitični nitrid PBN lončki so natančno opremljeni sestavni deli, zasnovani tako, da ustrezajo strogim potrebam visokotemperaturnih in ultra-nagajivih procesov v panogah, kot so polprevodniške proizvodnje, rast kristalov in vakuumske aplikacije. Izdelani skozi proces kemičnega odlaganja hlapov (CVD), PBN lončki ponujajo vrhunsko čistost, izjemno toplotno stabilnost in izjemno kemično inertnost, zaradi česar so izbran material v naprednem inženiringu materialov.

Ker ima bonski nitrid koeficient toplotne ekspanzije, ki je primerljiv s kokom kremena, vendar je njegova toplotna prevodnost 10 -krat večja od slednjega, ima odlično odpornost na toplotni udar, kar lahko zmanjša tveganje za razpokanje zaradi hitrih temperaturnih sprememb in ga je mogoče večkrat ciklirati pri 20 ~ 1200 ℃ brez težav. Poleg tega borovni nitrid ne reagira s kislinami, alkaliji, steklom in večino kovin in ima nizko mehansko trdnost, le nekoliko višjo od grafita, vendar se pri obremenitvah pri visokih temperaturah ne zmehča in ga lahko obdelujejo s splošnimi stroji za predelavo kovin. Zato je resnično primeren za uporabo kot lonček, plovilo, cev za dostavo tekočine in kovine za jekleno vlivanje za taljenje in izhlapevanje kovin.

Običajno ga izdeluje kemično odlaganje hlapov z uporabo plina, ki vsebuje boro (BCL3 ali B2H6) kot surovina, a ker je B2H6 zelo strupen, se BCL3 trenutno uporablja kot surovina. Plin, ki vsebuje bora, se podvrže pirolizi (1500 ~ 1800 ℃) in reagira z NH3 v visokotemperaturni reakcijski komori, da tvori trden bonski nitrid. Ker se med reakcijo pojavi piroliza, se imenuje tudiPirolitični bonski nitridlonček (splošno znan kot PBN lonček).

Proces rasti materiala je podoben "padajočemu snegu", to je, da so šesterokotne snežinke, ki se gojijo v reakciji, nenehno nabirajo na ogrevani grafitni podlagi (jedrna kalup). S časom se akumulacijski sloj zgosti in tvori PBN lupino. Demolding je neodvisna, čista komponenta PBN, na njem pa je ostala prevleka PBN. Ker PBN -Crucibles ni treba iti skozi tradicionalni postopek sintranja vročega stiskanja in mu ni treba dodati nobenega sintranja, ima zelo visoko čistost (več kot 99,99%), delovna temperatura pod vakuumom pa znaša kar 1800 stopinj, delovna temperatura pa lahko doseže do 2100 ° C (običajno nitrogen). Večinoma se uporablja pri izhlapevanju/molekularnem žarku Epitaxy (MBE)/Gaas kristalni rasti in drugih namenih.