> Novice > Novice iz industrije

Novice iz industrije

Polprevodniki 4. generacije Galijev oksid/β-Ga2O3

Prvo generacijo polprevodniških materialov predstavljata predvsem silicij (Si) in germanij (Ge), ki sta se začela vzpenjati v petdesetih letih prejšnjega stoletja. Germanij je bil v zgodnjih dneh prevladujoč in so ga večinoma uporabljali v nizkonapetostnih, nizkofrekvenčnih, srednje močnih tranzisto......

Preberi več

Epitaksialna rast brez napak in neustrezne dislokacije

Epitaksialna rast brez napak se pojavi, ko ima ena kristalna mreža skoraj enake konstante druge kristalne mreže. Rast se zgodi, ko se mrežni mesti obeh mrež na območju vmesnika približno ujemata, kar je mogoče z majhnim neujemanjem rešetk (manj kot 0,1 %). To približno ujemanje je doseženo tudi z el......

Preberi več

Postopek oksidacije

Najosnovnejša stopnja vseh procesov je proces oksidacije. Postopek oksidacije je, da se silicijeva rezina postavi v atmosfero oksidantov, kot sta kisik ali vodna para za visokotemperaturno toplotno obdelavo (800 ~ 1200 ℃), na površini silicijeve rezine pa pride do kemične reakcije, da nastane oksidn......

Preberi več

Zakaj epitaksija glijevega nitrida (GaN) ne raste na substratu GaN?

Rast epitaksije GaN na substratu GaN predstavlja edinstven izziv, kljub boljšim lastnostim materiala v primerjavi s silicijem. GaN epitaksija ponuja znatne prednosti v smislu širine prepovedanega pasu, toplotne prevodnosti in razgradnega električnega polja pred materiali na osnovi silicija. Zaradi t......

Preberi več

Kako narediti postopek CMP

V procesu izdelave silicijeve rezine, potem ko je kristalna palica razrezana na silicijeve rezine, jo bo treba polirati in očistiti, da dobimo enokristalno silicijevo rezino, kot je ogledalo.

Preberi več

Kaj je proces CMP

V proizvodnji polprevodnikov se ravnost na atomski ravni običajno uporablja za opis globalne ravnosti rezine z enoto nanometrov (nm).

Preberi več

<...7 8 9 10 11...22 >