- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Novice
Usodna napaka GaN
Medtem ko svet išče nove priložnosti na področju polprevodnikov, galijev nitrid (GaN) še naprej izstopa kot potencialni kandidat za prihodnje energetske in RF aplikacije. Kljub številnim prednostim pa se GaN sooča s pomembnim izzivom: odsotnost izdelkov tipa P. Zakaj je GaN pozdravljen kot naslednji......
Preberi več
Površinsko poliranje silicijevih rezin
Poliranje površine silicijeve rezine je ključni postopek v proizvodnji polprevodnikov. Njegov glavni cilj je doseči izjemno visoke standarde ravnosti in hrapavosti površine z odstranjevanjem mikronapak, plasti poškodb zaradi napetosti in kontaminacije zaradi nečistoč, kot so kovinski ioni.
Preberi več
