Horizontalni SiC Wafer Boat

Značilna značilnost Semicorex Horizontal SiC Wafer Boat je njegova natančno zasnovana arhitektura z režami, posebej prilagojena za varno držanje rezin na mestu med različnimi visokotemperaturnimi postopki. Ta natančna omejitev rezin služi več kritičnim funkcijam:

Odprava gibanja rezin:S preprečevanjem neželenega drsenja ali premikanja vodoravni SiC Wafer Boat zagotavlja dosledno izpostavljenost procesnim plinom in temperaturnim profilom, kar prispeva k zelo enotni obdelavi rezin in zmanjšuje tveganje napak.

Izboljšana enotnost postopka:Dosledno pozicioniranje rezin neposredno pomeni vrhunsko enotnost v kritičnih parametrih, kot so debelina plasti, koncentracije dopinga in morfologija površine. Ta natančnost je še posebej pomembna pri aplikacijah, kot sta nanašanje s kemično paro (CVD) in difuzija, kjer lahko že manjše spremembe znatno vplivajo na delovanje naprave.

Zmanjšana škoda na rezine:Varen oprijem vodoravnega SiC Wafer Boat zmanjša možnost lomljenja rezin, lomljenja ali prask med rokovanjem in transportom, kar je bistveno za ohranjanje visokih izkoristkov in zmanjšanje stroškov proizvodnje.

Horizontalni SiC Wafer Boat poleg njihove natančne zasnove ponuja prepričljivo kombinacijo lastnosti materialov, zaradi katerih je idealen za polprevodniško in fotovoltaično proizvodnjo:

Odpornost na ekstremne temperature: Horizontalni SiC Wafer Boat izkazuje izjemno trdnost in stabilnost pri visokih temperaturah, kar mu omogoča, da prenese ekstremne toplotne razmere, do katerih pride med procesi, kot so rast kristalov, žarjenje in hitra termična obdelava (RTP) brez deformacije ali degradacije.

Izjemno visoka čistost za nadzor kontaminacije:Uporaba SiC visoke čistosti zagotavlja minimalno sproščanje plinov ali nastajanje delcev, varuje celovitost občutljivih površin rezin in preprečuje kontaminacijo, ki bi lahko ogrozila delovanje naprave.

Izjemna kemična stabilnost:Inherentna inertnost SiC naredi Horizontal SiC Wafer Boat zelo odporen proti napadom korozivnih plinov in kemikalij, ki se običajno uporabljajo pri izdelavi polprevodnikov in fotovoltaike. Ta robustna kemična stabilnost zagotavlja dolgo življenjsko dobo delovanja in zmanjšuje tveganje navzkrižne kontaminacije med postopki.

Vsestranskost in zmogljivostne prednosti vodoravnega SiC Wafer Boat so pripeljale do njegove široke uporabe v številnih kritičnih polprevodniških in fotovoltaičnih proizvodnih procesih:

Epitaksialna rast:Natančno pozicioniranje rezin in enakomernost temperature sta ključnega pomena za doseganje visokokakovostnih epitaksialnih plasti v naprednih polprevodniških napravah, zaradi česar je Horizontal SiC Wafer Boat bistveno orodje za ta proces.

Difuzija in ionska implantacija:Natančna kontrola dopinga je najpomembnejša pri določanju električnih značilnosti polprevodniških naprav. Horizontalni SiC Wafer Boat zagotavlja natančno pozicioniranje rezin med temi procesi, kar vodi do izboljšane enotnosti in učinkovitosti naprave.

Proizvodnja sončnih celic:Visokotemperaturne zmogljivosti in kemična odpornost Horizontal SiC Wafer Boat so idealne za obdelavo silicijevih rezin, ki se uporabljajo v fotonapetostnih celicah, kar prispeva k večji učinkovitosti in dolgoživosti sistemov za sončno energijo.