Podporni pladenj za Crucible

Pri visokotemperaturni proizvodnji polprevodnikov sta stabilnost in natančnost ključni za zagotavljanje dosledne kakovosti kristalov. Podporni pladenj Semicorex Crucible igra ključno, a pogosto spregledano vlogo pri ohranjanju celovitosti procesa rasti kristalov, saj zagotavlja zanesljivo podlago v ekstremnih toplotnih in mehanskih pogojih.

Podporni pladenj Crucible, znan tudi kot aogljik/ogljik (C/C)držalo za lonček je posebej zasnovano za podporo kremenčevim ali grafitnim lončkom med rastjo monokristalnega silicija. Ta komponenta, ki je nameščena na dnu toplotnega polja, mora vzdržati dolgotrajno izpostavljenost visokim temperaturam, hkrati pa ohraniti strukturno celovitost in dimenzijsko stabilnost. Njegova robustna zasnova zagotavlja, da ostane lonček med postopkom varno nameščen, kar zmanjšuje vibracije, deformacije ali neusklajenost, ki bi lahko negativno vplivala na kakovost kristala.

Vloga podpornega pladnja C/C

Med rastjo monokristalnega silicija temperature pogosto presežejo 1400°C. Čeprav so tradicionalni grafitni materiali uporabni, se pogosto soočajo z izzivi glede življenjske dobe in deformacije pod veliko težo staljenega silicija. Naš podporni pladenj C/C iz kompozitnega lončka rešuje te boleče točke.

Z uporabo visoko trdne matrike, ojačane z ogljikovimi vlakni, ta pladenj ponuja "skoraj nič" profil toplotnega raztezanja in izjemno nosilnost. Služi kot vmesnik med lončkom in vrtečo se gredjo, pri čemer ohranja popolnoma ravno ravnino, da prepreči turbulenco taline in kristalne napake.

Tehnične specifikacije in odličnost materialov

Gostota: ≥ 1,3 g/cm³

Upogibna trdnost: ≥ 110 MPa

Koeficient toplotnega raztezanja (CTE): ≤ 1,0 × 10⁻⁶ /K

Tlačna trdnost: ≥ 160 MPa