Kratka predstavitev grafitnih plošč visoke čistosti

Na vrhunskih proizvodnih področjih, kot so polprevodniki, fotovoltaika in nova energija, obstaja nepogrešljiv material. Ima izjemno visoko čistost in je odporen na ekstremne visoke temperature ter odporen proti koroziji. Široko se uporablja v jedrnem termičnem polju enokristalnih peči, hkrati pa olajša natančne proizvodne procese čipov. Ta visoko zmogljiv material je grafitna plošča visoke čistosti.

Visoka čistostgrafitplošče so ogljikovi materiali v obliki plošč, izdelani iz vrhunskih surovin, vključno z naftnim koksom, smolnim koksom ali naravnim grafitom visoke čistosti, skozi vrsto proizvodnih procesov, kot so kalcinacija, gnetenje, oblikovanje, pečenje, visokotemperaturna grafitizacija (nad 2800 ℃) in čiščenje. Glavna prednost grafitnih plošč visoke čistosti je njihova izjemna čistost, njihova skupna vsebnost nečistoč pa je običajno nadzorovana pod 10–50 ppm, kar pomeni, da nečistoče ne predstavljajo več kot 50 delcev na milijon materiala.

Zakaj so grafitne plošče visoke čistosti tako iskane?

Razširjena uporaba grafitnih plošč visoke čistosti izhaja iz njegovih šestih osnovnih lastnosti, od katerih vsaka popolnoma izpolnjuje stroge zahteve vrhunske proizvodnje.

1. Izjemno visoka čistost pomeni izjemno nizko vsebnost pepela in brez izhlapevanja nečistoč pri visokih temperaturah, kar preprečuje kontaminacijo natančnih proizvodnih procesov, kot je proizvodnja polprevodniških rezin.

2. Zaradi vrhunske odpornosti na visoke temperature stabilno delujejo pri do 3000 ℃ v inertnem ali vakuumskem okolju.

3. Odlična toplotna in električna prevodnost, s koeficientom toplotne prevodnosti približno 120–150 W/(m·K) in električno prevodnostjo blizu 70 % bakra.

4. Zanesljiva kemična stabilnost, odporen na močne kisline, alkalije in zelo korozivne medije, skoraj brez reakcije na staljene kovine.

5. Močna toplotna stabilnost, za katero so značilni nizek koeficient toplotnega raztezanja, visoka odpornost na toplotne udarce in visoka dimenzijska natančnost.

6. Enostavna obdelava, primerna za različne scenarije uporabe.

Glavne uporabe grafitnih plošč visoke čistosti

Uporaba grafitnih plošč visoke čistosti že dolgo prežema vse vidike našega življenja, od čipov mobilnih telefonov in sončnih celic do vesoljskih in novih energetskih vozil.

1. Razred 3N (99,9 % čistost) za osnovna visokokakovostna polja

Ta kakovost je stroškovno učinkovita in zadovoljuje običajne proizvodne potrebe višjega cenovnega razreda, saj se pogosto uporablja v metalurgiji, vakuumskih pečeh, toplotni obdelavi, preciznih litjih, splošnih grafitnih izdelkih in kemičnih protikorozijskih komponentah, kot so obloge reaktorjev, plošče izmenjevalnika toplote in tesnila.

2. Stopnja 4N (99,99 % čistost) za jedro fotovoltaike in nove energije

Kot najpogosteje uporabljen razred se trenutno uporablja v osnovnih komponentah toplotnih polj za fotovoltaične mono/polikristalne peči, vključno z grelnimi elementi, izolacijskimi pokrovi in ​​vodilnimi cilindri, nosilnimi ploščami za proizvodnjo sončnih celic, litijevih baterij, kot so anodni tokovni zbiralniki in prevodni substrati, bipolarne plošče gorivnih celic in pomožni deli polprevodnikov.

3. Razred 5N (99,999 % čistost) za emiprevodnike in vrhunsko elektroniko

Proizvodnja polprevodniških rezin (grelci, lončki, nosilci za peči na monokristale), procesi izdelave čipov (fokusni obroči za stroje za jedkanje, pladnji za opremo za nanašanje), toplotna polja za vrhunsko elektroniko in optični premaz. Zahteva izjemno visoko stopnjo čistosti in je eden ključnih materialov za industrijo čipov.

Poleg zgornjih aplikacij se grafitne plošče visoke čistosti uporabljajo v preciznih industrijah, kot je vesoljska industrija za raketne šobe in komponente toplotne izolacije letalskih motorjev, jedrska industrija za moderatorje nevtronov in kontrolne palice za jedrske reaktorje, elektrode EDM in visokotemperaturne toplotne odvode.