Kaj je nizkotemperaturno plazemsko jedkanje?

Plazma je četrto agregatno stanje in igra ključno vlogo v industrijskih aplikacijah in naravnih pojavih. Na primer, plazma je prisotna v streli in se v izobilju ustvari na površini sonca, kjer temperatura jedra doseže osupljivih 13.500 °C. Ta visokotemperaturna plazma ni primerna za večino industrijskih proizvodnih procesov.

Po drugi strani pa je nizkotemperaturna plazma umetno ustvarjena oblika plazme, ki za pospeševanje kemičnih reakcij uporablja energijo namesto toplote. Njegova temperatura se običajno giblje od sobne temperature do nekaj sto stopinj Celzija, zaradi česar je zelo učinkovit za različne aplikacije.

Koraki za ustvarjanje umetne plazme:

1. Zmanjšajte tlak v komori: Začnite z uporabo vakuumske črpalke, da znižate tlak v komori. Doseganje nizkega tlaka je bistveno za stabilizacijo plazme in olajšanje ionizacije plina.

2. Uvedite procesni plin: v votlino vbrizgajte posebne procesne pline. Ti plini služijo kot primarni vir delcev v plazmi.

3. Vzbudite plazmo: uporabite moč za ionizacijo plina in tako učinkovito ustvarite plazmo.

4. Deaktivirajte plazmo in ponovno vzpostavite atmosferski tlak: Ko so želene reakcije končane, izklopite plazmo in vrnite komoro na atmosferski tlak.

Uporaba nizkotemperaturne plazme v proizvodnji polprevodnikov:

Nizkotemperaturna plazma je nepogrešljiva pri proizvodnji polprevodnikov, saj opravlja kritične funkcije pri suhem jedkanju, fizičnem naparjevanju (PVD), kemičnem naparjevanju (CVD), atomsko plastnem nanašanju (ALD), ionski implantaciji, žarenju in zaznavanju končnih točk. Zaradi vsestranskosti in učinkovitosti je temeljno orodje v industriji.

Semicorex ponujavisokokakovostne rešitve za plazemsko jedkanje. Če imate kakršna koli vprašanja ali potrebujete dodatne podrobnosti, ne oklevajte in stopite v stik z nami.

Kontaktna telefonska številka +86-13567891907

E-pošta: sales@semicorex.com