Poznamo dve vrsti epitaksije: homogeno in heterogeno. Za izdelavo SiC naprav s specifično odpornostjo in drugimi parametri za različne aplikacije mora substrat izpolnjevati pogoje epitaksije, preden se lahko začne proizvodnja. Kakovost epitaksije vpliva na delovanje naprave.
Preberi večPri izdelavi polprevodnikov je jedkanje eden glavnih korakov, skupaj s fotolitografijo in nanašanjem tankega filma. Vključuje odstranjevanje neželenih materialov s površine rezine s kemičnimi ali fizikalnimi metodami. Ta korak se izvede po premazovanju, fotolitografiji in razvijanju. Uporablja se za......
Preberi več