Pomen poroznih grafitnih materialov za rast kristalov SiC

Semicorexova komponenta peči za rast kristalov SiC,porozni grafitni sod, bo prinesel tri velike koristi in lahko učinkovito okrepi konkurenčnost domačihSiC substrati:

• Zmanjšajte stroške komponent za rast kristalov SiC;
• Povečajte debelino kristala SiC in zmanjšajte skupne stroške substrata;
• Izboljšajte izkoristek kristalov SiC in povečajte konkurenčnost podjetij.

Dodajanje poroznih grafitnih plošč v peči za rast kristalov SiC je ena od vročih točk v industriji. Dokazano je, da z vstavitvijo aporozni grafitlistov nad izvornim prahom SiC, se doseže dober prenos mase v kristalnem območju, kar lahko izboljša različne tehnične težave, ki obstajajo v tradicionalnih pečeh za rast kristalov.

(a) Tradicionalna peč za rast kristalov, (b) Peč za rast kristalov s porozno grafitno ploščo

Vir: Univerza Dongui, Južna Koreja

Poskusi so pokazali, da imajo pri uporabi tradicionalnih peči za rast kristalov substrati SiC običajno različnepolimorfi, kot sta 6H in 15R-SiC, medtem koSiC substratipripravljeni samo s pečmi za rast kristalov na osnovi poroznega grafita4H-SiC monokristal. Poleg tega sta znatno zmanjšani tudi gostota mikrocevk (MPD) in gostota jedkanih jamic (EPD). MPD dveh peči za rast kristalov je 6-7EA/cm2 oziroma 1-2EA/cm2, kar je lahkoznižana do 6-krat.

Semicorex je uvedel tudi nov postopek "enkratnega prenosa mase", ki temelji naporozne grafitne plošče. Porozni grafit ima zelo dobrosposobnost čiščenja. Novi postopek uporablja novo toplotno polje za primarni prenos mase, zaradi česar je učinkovitost prenosa mase izboljšana in v bistvu konstantna, s čimer se zmanjša vpliv rekristalizacije (izogibanje sekundarnemu prenosu mase), kar učinkovito zmanjša tveganje mikrotubulov ali drugih povezanih kristalnih napak. Poleg tega je porozni grafit tudi ena od ključnih tehnologij za reševanje problema rasti in debeline kristalov SiC, saj lahko uravnoteži komponente plinaste faze, izolira sledi nečistoč, prilagodi lokalno temperaturo in zmanjša fizične delce, kot je ogljikov ovoj. Ob predpostavki, da je kristal mogoče uporabiti,debelina kristalase lahko zmanjša. se lahko znatno poveča.

Tehnične značilnostiSemicorex porozni grafit:

Poroznost lahko doseže do 65%;

Pore ​​so enakomerno porazdeljene;

Visoka stabilnost serije;

Visoka trdnost, lahko doseže ≤1 mm ultra tanke cilindrične oblike.

Semicorex ponuja visoko kakovostporozni grafitdeli. Če imate kakršna koli vprašanja ali potrebujete dodatne podrobnosti, ne oklevajte in stopite v stik z nami.

Kontaktna telefonska številka +86-13567891907

E-pošta: sales@semicorex.com